Solución y precursores para la deposición de vapor

Ofrecemos una amplia gama de productos químicos inorgánicos y organometálicos de alta pureza, diseñados específicamente para procesos en solución, deposición química en fase de vapor (CVD), deposición química en fase de vapor de compuestos organometálicos (MOVCVD) y aplicaciones de deposición por capas atómicas (ALD). Nuestros materiales son de alta calidad, con purezas que oscilan entre el 99 % y el 99,9999 %. Esta variada selección de precursores de deposición está diseñada para satisfacer todas sus necesidades de investigación, ya sea para experimentos a escala de laboratorio, proyectos a escala piloto o fabricación. Nuestra completa gama incluye:

Precursores para la deposición en solución

La aplicación de los precursores para deposición en solución, conocidos comúnmente como precursores sol-gel, se ha ampliado considerablemente hasta abarcar una gran variedad de procesos químicos. En la actualidad, este método se define de forma amplia como la creación de materiales sólidos, entre los que se incluyen óxidos metálicos, nanoestructuras, cerámicas densas o vidrio, y películas delgadas derivadas de soluciones precursoras. Nuestros precursores para deposición en solución están diseñados para ofrecer una consistencia y fiabilidad sin igual, gracias a un control meticuloso de las impurezas de metales traza. Somos conscientes de que mantener una alta pureza en los precursores sol-gel es fundamental para lograr las propiedades y la funcionalidad deseadas de los materiales finales.

Ofrecemos 55 metales comunes diferentes, entre los que destacan:

• Metales en trazas de pureza ultraalta, que van del 99,9 % al 99,999 %, para un rendimiento superior en la investigación.
• Formas funcionales disponibles, como acetato, acetilacetonato, terc-butóxido, isopropoxido, fenóxido, etoxido, tri-sec-butóxido, metóxido y 2-etilhexanoato.
• Calidad constante con especificaciones exhaustivas adaptadas a diversas aplicaciones.
• Alta solubilidad en disolventes adecuados para facilitar la creación de soluciones homogéneas para el proceso sol-gel.

Deposición química en fase de vapor (CVD)/Deposición por capas atómicas (ALD)

Los precursores de la deposición por capas atómicas (ALD) y de la deposición química en fase de vapor (CVD) desempeñan un papel fundamental en la fabricación de capas de espesor nanométrico de metales, semiconductores y materiales aislantes. Estos procesos son vitales para la electrónica avanzada, los paneles solares eficientes, los dispositivos de memoria, los chips informáticos y una gran variedad de aplicaciones de alto rendimiento.

Somos conscientes de que la selección de los precursores adecuados para CVD y ALD es esencial para producir películas delgadas de alta calidad. La composición química de un precursor influye en la composición, la estructura y la funcionalidad de la película. Deben evaluarse cuidadosamente factores críticos como la pureza, la volatilidad, la estabilidad térmica y la reactividad con la superficie del sustrato, ya que todos ellos afectan a la cristalinidad, el espesor y la morfología superficial de la película.  

Para dar respuesta a estas necesidades, ofrecemos precursores de alta pureza (del 99 % al 99,999 %, en base a metales traza) diseñados para minimizar las impurezas que podrían afectar negativamente a las propiedades de la película. Nuestros precursores están formulados para ser térmicamente estables a las temperaturas de deposición y reactivos con el sustrato, lo que garantiza una deposición óptima de la película. Gracias a estas cualidades superiores de los materiales, nos comprometemos a satisfacer sus requisitos específicos de investigación y aplicación, permitiéndole obtener películas delgadas precisas y de alta calidad.

Precursores envasados para sistemas de deposición

Ofrecemos precursores ALD de alta calidad, envasados de forma segura y práctica en robustos cilindros de acero, lo que garantiza su compatibilidad con una amplia variedad de sistemas de deposición. Cada cilindro está equipado con válvulas de precisión que permiten controlar el flujo de material hacia la cámara de deposición, mejorando así la eficiencia operativa y la seguridad.