광자 및 광학 재료

포토닉스는 전자 대신 복사 에너지(가시광선이나 적외선 빔 등)에서 발생하는 광자를 이용해 데이터를 전송하는 기술입니다. 기존 전자공학과 비교할 때, 포토닉스는 더 넓은 대역폭, 더 빠른 응답 속도, 외부 전자기장에 의한 노이즈 감소 등 정보 및 이미지 처리 기술에 있어 수많은 장점을 가지고 있습니다. 비선형 광학(NLO) 과정은 빛이 NLO 활성 매질을 통과할 때 주파수, 위상, 진폭 또는 투과 특성 등 빛의 성질을 변화시킬 수 있는 능력 덕분에 포토닉스 응용 분야에서 필수적인 역할을 합니다.

당사의 포토닉 및 광학 소재 중에는 다양한 염료(레이저, 적외선(IR), 화학발광, 프탈로시아닌/포르피린, 광변색 및 열변색)는 물론, 비선형 광학(NLO), 광발광 및 굴절률(RI) 제어 소재도 폭넓게 제공됩니다. 당사의 포괄적인 제품 포트폴리오를 통해 귀사의 광 관리 및 디스플레이 기술 연구를 한 단계 더 발전시켜 보십시오:

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유기 비선형 광학(NLO) 소재

당사는 우수한 반응 속도, 높은 광학 투명도, 그리고 더 뛰어난 3차 감수성을 지닌 발색단, 중간체, NLO 단량체 및 NLO 고분자를 포함한 광범위한 유기 NLO 물질을 제공합니다. 물질이 NLO 활성을 나타내려면 비중심대칭적이어야 합니다. 고분자 기반 NLO 소재에서 NLO 발색단은 게스트(호스트-게스트 시스템 내)로서, 또는 고분자 사슬에 공유결합으로 접목된 필수 구성 요소로서, 심지어 고분자 골격 자체에 공중합된 형태로 고분자 매트릭스에 도입될 수 있습니다. 당사의 공유결합형 NLO 고분자는 귀사의 응용 분야에서 NLO 발색단의 안정성을 현저히 향상시킬 수 있습니다.

광도파로 소재

굴절률(RI)은 광 도파관, LCD 디스플레이, 반사 방지 코팅 및 안과용 기기 등의 응용 분야에서 매우 중요합니다. 고분자 기반 저굴절률 및 고굴절률 소재는 무기 소재에 비해 가공이 용이하고, 경량이며, 기계적 응력에 대한 내성이 뛰어납니다. 당사는 방향족 및 브롬화 방향족 단량체를 기반으로 한 광범위한 고굴절률 폴리머와, 불소화 단량체를 기반으로 한 저굴절률 폴리머를 제공합니다.

NIR 염료

당사의 근적외선(NIR) 발광 염료인 TokeOni와 seMpai는 소동물의 비침습적 심부 조직 생체 이미징에 이상적입니다. 이 염료들은 677 nm에서 피크를 보이는 근적외선을 방출하며, 이는 대부분의 동물 조직과 신체를 투과할 수 있고, 기존의 반딧불이 루시페라제(Fluc)/D-루시페린 시스템에 사용되는 D-루시페린에 비해 훨씬 더 높은 감도를 제공합니다.

D-루시페린과 비교했을 때, TokeOni와 seMpai는 다음과 같은 특징을 가지고 있습니다:

더 높은 수용성
더 긴 파장의 발광
혈뇌 장벽을 통과할 수 있는 능력
5.2배 신호 증가
높은 화학적 안정성
낮은 독성

최적화된 효소와 결합했을 때, TokeOni 기반 AkaBLI 시스템은 기존 D-루시페린/Fluc 시스템에 비해 체외에서 40배, 생체 내에서 100~1,000배 더 높은 밝기를 제공하여, 자유롭게 움직이는 동물의 깊은 내부에 있는 단일 세포를 비침습적으로 시각화할 수 있었으며, 이는 주사 1년 후에도 여전히 유효했습니다.

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광도파로 소재

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