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759414

Orthosilicate de tétraéthyle

packaged for use in deposition systems

Synonyme(s) :

Ester tétraéthylique de l’acide orthosilicique, TEOS, Tétraéthoxysilane

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A propos de cet article

Formule linéaire :
Si(OC2H5)4
Numéro CAS:
78-10-4
Poids moléculaire :
208.33
UNSPSC Code:
12352103
NACRES:
NA.23
PubChem Substance ID:
329766783
EC Number:
201-083-8
Beilstein/REAXYS Number:
1422225
MDL number:
MFCD00009062
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vapor density

7.2 (vs air)

Quality Segment

100

vapor pressure

<1 mmHg ( 20 °C)

assay

≥99.5% (GC)

form

liquid

refractive index

n20/D 1.382 (lit.)

bp

168 °C (lit.)

density

0.933 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES string

CCO[Si](OCC)(OCC)OCC

InChI

1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3

InChI key

BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N

Application

Couramment utilisé comme précurseur dans la préparation de xérogel
Interagit avec la dodécylamine dans la formation de composés d'intercalation de magadiite-H+ et utilisé dans une étude portant sur des verres bioactifs comprenant un mélange de métaux.
Tetraethyl orthosilicate (TEOS) is an oxygen containing precursor of Si used for the deposition of:
  • Si oxide
  • Oxycarbide
  • Doped silicate
  • Silanol
  • Siloxane polymer
  • Organosilicon thin films

The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.

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pictograms

FlameExclamation mark
GHS02,GHS07

signalword

Warning

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3

target_organs

Respiratory system

Classe de stockage

3 - Flammable liquids

wgk

WGK 1

flash_point_f

113.0 °F - closed cup

flash_point_c

45 °C - closed cup

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