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759414

Ortosilicato de tetraetilo

packaged for use in deposition systems

Sinónimos:

TEOS, Tetraetoxisilano, Éster tetraetílico del ácido ortosilícico

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Acerca de este artículo

Fórmula lineal:
Si(OC2H5)4
Número CAS:
78-10-4
Peso molecular:
208.33
UNSPSC Code:
12352103
NACRES:
NA.23
PubChem Substance ID:
329766783
EC Number:
201-083-8
Beilstein/REAXYS Number:
1422225
MDL number:
MFCD00009062
Servicio técnico
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vapor density

7.2 (vs air)

Quality Segment

100

vapor pressure

<1 mmHg ( 20 °C)

assay

≥99.5% (GC)

form

liquid

refractive index

n20/D 1.382 (lit.)

bp

168 °C (lit.)

density

0.933 g/mL at 20 °C (lit.)

SMILES string

CCO[Si](OCC)(OCC)OCC

InChI

1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3

InChI key

BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N

Application

Interaccionará con la dodecilamina en la formación de compuestos de intercalación de H+-magadiita y se utilizó en un estudio de vidrios bioactivos de metales mixtos.
Utilizado normalmente como precursor para preparar xerogeles
Tetraethyl orthosilicate (TEOS) is an oxygen containing precursor of Si used for the deposition of:
  • Si oxide
  • Oxycarbide
  • Doped silicate
  • Silanol
  • Siloxane polymer
  • Organosilicon thin films

The films can be deposited at low temperatues (<250 °C). TEOS is also used to deposit mesoporous and nanoporous thin films of silica. These porous films can be doped during deposition to further enhance their properties.

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pictograms

FlameExclamation mark
GHS02,GHS07

signalword

Warning

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Inhalation - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - STOT SE 3

target_organs

Respiratory system

Clase de almacenamiento

3 - Flammable liquids

wgk

WGK 1

flash_point_f

113.0 °F - closed cup

flash_point_c

45 °C - closed cup

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