産業機器供給用 純水製造装置
メルクのMilli-Qループセントラルなら、室内での複数のユースポイント、機器供給、様々なアプリケーションに対応した純水・超純水システムの構築が可能です。
EDIや紫外線UVランプなどを中心とした技術は従来の純水に比べ、ランニングコスト、測定の信頼性、機器のメンテナンス性に優れ、様々な産業機器に応用されています。
環境試験器用 純水
恒温恒湿器・安定性試験器を中心とした環境試験器は、加湿のために純水が使われています。耐候性試験機供給用 純水
試料へのスプレー、加湿に純水が使われています。洗浄・薬液希釈用 純水・超純水
精密機器や半導体産業用パーツの最終リンス用純水・薬品の希釈用水として使われています。環境試験器用純水
メルクの環境試験器用純水製造装置でこれらのトラブルを解決！
 ボイラーのスケーリング発生 |
 ボイラーからの不純物の放出 |
 ウィックの目詰まり |
||
 |
 |
 |
||
| 温度と湿度両方をコントロールして材料やパーツ、製品等の試験を行うための恒温恒湿器は加湿のための純水が必須です。純水は恒温恒湿器のボイラーで水蒸気としてチャンバー内に供給されます。 再生式のイオン交換樹脂で処理した水を供給した場合、水中の不純物が水蒸気と共にワークに運ばれます。これらの不純物はワーク表面に付着し、試験に不自然な劣化の加速などを引き起こす場合があります。 一方、ボイラーには不純物が濃縮されボイラーに析出物（スケーリング）が付着します。これにより新たにメンテナンスが発生します。さらに水中の不純物はウィックの目詰まりを引き起こし、水蒸気蒸発効率の低下を招くことで、チャンバー内の湿度表示の誤差を引き起こします。 また、不純物はボイラーのヒーターや冷却コイルの腐食の発生に影響するとも言われています。 |
||||
複数台の小型環境試験機や恒温恒湿室に供給する場合に最適です。
特長
-ボイラーやウイックのメンテナンスが低減できます。
-連続イオン交換EDIで、イオン交換樹脂の交換作業不要。
-シリカフリー！EDIはシリカのような弱イオンも除去。
-殺菌用紫外線ランプで微生物を抑制し、配管の目詰まりを防止します。
-複数台の環境試験器に自動給水。
耐候性試験機供給用純水
プラスチックや塗料など日光や風雨にさらされる外装材などは、耐候性試験機にて材質劣化の加速試験が行われます。降雨を模擬するために、耐候性試験機には純水の供給が必要となります。
メルクは、耐候試験に求められる高品質の純水を安定的に供給します。
特長
-EDIがシリカを安定的に除去。水垢による試料表面の光沢度、色度が正確に測定可能。
-交換不要の EDIで、イオン交換樹脂がメンテナンスフリー。
-イオン交換に比べて低ランニングコスト。初期投資を数年で回収できます。
-耐候性試験機がシリカで汚れず、耐候性試験機のランニングコストやメンテナンスが最小になります。
-1台のシステムで複数台の耐候性試験機や、環境試験器にまとめて純水を供給できます。
 シリカの水垢が発生 |
|
| 耐候性試験への水質影響 RO+EDI純水とイオン交換水の比較 | RO+EDI純水 によるシリカの除去性能 |
 |
 |
| 純水にて降雨を模擬する耐候性試験において高品質な純水は欠かせません。水の不純物の中で特にシリカは、イオン状、コロイド状の2種類の形状を示し、イオン状シリカは非常に弱い電荷しか持たないことが知られています。このため再生式のイオン交換樹脂で処理した場合、コロイド状シリカは全く除去できず通過し、イオン状シリカも一旦は処理されますが、樹脂塔の飽和に近くなると、逆にイオン状シリカを放出します。 シリカが純水中に含まれていると、噴霧、乾燥が繰り返される試料表面でシリカが濃縮されてコロイド状シリカの白いシミが付着してしまいます。これにより試料表面の劣化具合や色度・光沢度などの数値が実際とずれてしまう可能性があります。 |
|
洗浄・薬液希釈用 純水・超純水
シリカによる水垢が付着せず、精密機器や半導体産業用パーツ、メッキ部品の最終リンスなど厳しい仕様を求められる製品の最終洗浄に最適です。また様々な薬液希釈用供給用としても、元の試薬の性質を損なわない高純水を最小限のメンテナンスで安定的に供給します。
自動洗浄機との接続、また、産業分野だけではなく研究室でのサブセントラル純水、超純水の前処理、に適しています。
|
-目的・用途に応じた水質の供給 |
|
（画像を拡大表示） |
|
オプション
高流量、精密洗浄・セミプラントレベルの製造施設に対応超純水製造装置 Super-Q は、一次処理した高純水を原水として、無機イオン、有機物、微粒子、微生物、コロイドを除去し、最高純度の超純水を5 ～15L/分供給します。
半導体用をはじめとする高純度薬品の希釈、半導体メモリー、ディスク、TFT カラー液晶などの高集積化、高密度化、大画面化の研究開発、試作、評価、生産に必要な超純水を簡便、コンパクトにご利用頂けます。
また、半導体用洗浄などで大量の超純水を必要とされるパイロットプラント向けとしても最適です。
 |
高流量、一般洗浄、製造用水に対応
最終使用点でのポリッシング用としてご使用ください。
アナログコントローラー、ポンプで構成されたお求めやすいユニットのみの仕様です。
お問合せ先
- On-Lineフォーム：製品・技術に関するお問合せ
- TEL（営業）：03-4531-3939
- TEL（技術・サービス）：03-4531-1139
※掲載価格は希望販売価格（税別）です。実際の価格は弊社製品取扱販売店へご確認ください。なお、品目、製品情報、価格等は予告なく変更される場合がございます。予めご了承ください。