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フォトニック材料および光学材料

工場内の機械の穴を通してレーザーの経路を導く光学部品の画像

フォトニクスとは、電子の代わりに放射エネルギー(可視光や赤外線など)から得られる光子を用いてデータを伝送する技術である。 従来の電子工学と比較して、フォトニクスは情報処理や画像処理技術において、より広い帯域幅、より速い応答速度、外部電磁界によるノイズの低減など、数多くの利点を持っています。非線形光学(NLO)プロセスは、光がNLO活性媒質を通過する際に、周波数、位相、振幅、あるいは透過特性といった光の性質を変化させる能力を持つため、フォトニクス応用において極めて重要な役割を果たしています。 

当社のフォトニクスおよび光学材料には、幅広い種類の色素(レーザー用、赤外線(IR)用、化学発光用、フタロシアニン/ポルフィリン系、フォトクロミック、サーモクロミック)に加え、非線形光学(NLO)材料、フォトルミネッセンス材料、屈折率(RI)制御材料などが含まれます。 ​当社の包括的な製品ラインナップで、光制御およびディスプレイ技術の研究をさらに活性化させましょう:​


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有機非線形光学(NLO)材料

当社は、優れた応答速度、高い光学透明度、およびより大きな3次誘電率を備えた、発色団、中間体、NLOモノマー、NLOポリマーを含む幅広い有機NLO材料を提供しています。材料がNLO活性を示すためには、非中心対称である必要があります。 ポリマー系NLO材料において、NLO発色団は、ゲストとして(ホスト・ゲスト系において)、あるいはポリマー鎖に共有結合でグラフト化された構成要素として、さらにはポリマー主鎖自体に共重合される形など、さまざまな方法でポリマーマトリックスに組み込むことができます。当社の共有結合型NLOポリマーは、お客様の用途においてNLO発色団の安定性を著しく向上させることができます。

導波路材料

屈折率(RI)は、光導波路、液晶ディスプレイ(LCD)、反射防止コーティング、眼科用デバイスなどの用途において極めて重要です。ポリマー系低屈折率および高屈折率材料は、無機材料と比較して加工が容易で、軽量であり、機械的応力に対する耐性にも優れています。 当社は、芳香族および臭素化芳香族モノマーをベースとした高屈折率ポリマー、ならびにフッ素化モノマーをベースとした低屈折率ポリマーを幅広く提供しています。

NIR染料

当社の近赤外(NIR)発光色素「TokeOni」および「seMpai」は、小動物の非侵襲的な深部組織バイオイメージングに最適です。 これらは、677 nm をピークとする近赤外発光を発し、ほとんどの動物の組織や体内に浸透することができ、従来のホタルルシフェラーゼ(Fluc)/ D-ルシフェリンシステムで使用される D-ルシフェリンと比較して、はるかに高い感度を実現します。

D-ルシフェリンと比較して、「TokeOni」および「seMpai」には以下の特徴があります。

  • 水への溶解性が高い
  • より長い波長の光発光
  • 血液脳関門を通過する能力
  • 5.2倍の信号増大
  • 高い化学的安定性
  • 低毒性

最適化された酵素と組み合わせることで、TokeOni ベースの AkaBLI システムは、従来の D-ルシフェリン/Fluc システムと比較して、in vitro では 40 倍、in vivo では 100~1000 倍の輝度を実現し、自由に動き回る動物の体内の深部にある単一細胞の非侵襲的な可視化を可能にしました。この効果は、注入から 1 年後も持続していました。


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