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Acerca de este artículo
Fórmula lineal:
C6H4[Si(CH3)3]2
Número CAS:
Peso molecular:
222.47
UNSPSC Code:
12352100
NACRES:
NA.22
PubChem Substance ID:
MDL number:
Beilstein/REAXYS Number:
1867055
Assay:
96%
Form:
solid
Servicio técnico
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assay
96%
form
solid
bp
194 °C/742 mmHg (lit.)
mp
91-94 °C (lit.)
SMILES string
C[Si](C)(C)c1ccc(cc1)[Si](C)(C)C
InChI
1S/C12H22Si2/c1-13(2,3)11-7-9-12(10-8-11)14(4,5)6/h7-10H,1-6H3
InChI key
NVRBTKMAZQNKPX-UHFFFAOYSA-N
Application
1,4-Bis(trimethylsilyl)benzene (TMSB) can be used:
- As a precursor for developing silicon carbide coating using plasma-assisted chemical vapor deposition (CVD) process.
- As a secondary standard in quantitative NMR (qNMR) spectroscopy.
- As an internal standard for quantitation of small organic molecules in DMSO-d6 solution by 1H NMR spectroscopy.
Clase de almacenamiento
11 - Combustible Solids
wgk
WGK 3
flash_point_f
347.0 °F - closed cup
flash_point_c
175 °C - closed cup
ppe
Eyeshields, Gloves, type N95 (US)
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Synthesis of 1, 4-dihydropyrrolo [3, 2-b] pyrrole.
Kumagai T, et al.
Tetrahedron Letters, 25(49), 5669-5672 (1984)
Role of vapor pressure of 1, 4-bis (trimethylsilyl) benzene in developing silicon carbide thin film using a plasma-assisted liquid injection chemical vapor deposition process
Selvakumar J, et al.
Surface and Coatings Technology, 205(11), 3493-3498 (2011)
Use and qualification of primary and secondary standards employed in quantitative 1H NMR spectroscopy of pharmaceuticals
Rundlof T, et al.
Journal of Pharmaceutical and Biomedical Analysis, 93(11), 111-117 (2014)