651788
Negative resist developer I
General description
signalword
Danger
Hazard Classifications
Acute Tox. 4 Dermal - Acute Tox. 4 Inhalation - Aquatic Chronic 3 - Asp. Tox. 1 - Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 3 - Repr. 1B - Skin Irrit. 2 - STOT RE 2 Inhalation - STOT SE 3
target_organs
Central nervous system,Liver,Kidney, Respiratory system
保管分類
3 - Flammable liquids
wgk
WGK 2
flash_point_f
78.8 °F - closed cup
flash_point_c
26 °C - closed cup
ppe
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type ABEK (EN14387) respirator filter
適用法令
試験研究用途を考慮した関連法令を主に挙げております。化学物質以外については、一部の情報のみ提供しています。 製品を安全かつ合法的に使用することは、使用者の義務です。最新情報により修正される場合があります。WEBの反映には時間を要することがあるため、適宜SDSをご参照ください。
Class I Designated Chemical Substances
prtr
Group 4: Flammable liquids + Type 2 petroleums + Hazardous rank III + Water insoluble liquid
fsl
Substances Subject to be Indicated Names
ishl_indicated
Substances Subject to be Notified Names
ishl_notified
651788-BULK: + 651788-VAR: + 651788-250ML:4548173241579
jan
プロトコル
本フォトレジストキットには、リソグラフィープロセスにおける各ステップで必要な材料が含まれています。各材料は、すぐにお使いいただけるようにあらかじめ計量されており、エッチング液については、様々な基板に適切なものをお選びいただけるように、個別に販売しています。
Photoresist kit offers pre-weighed chemical components for lithographic processes, with separate etchants for various substrate choices.
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Technical Bulletins
ライフサイエンス、有機合成、材料科学、クロマトグラフィー、分析など、あらゆる分野の研究に経験のあるメンバーがおります。.
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